
Квадратная подложка плоского зеркала представляет собой квадратную прецизионно полированную оптическую подложку, поверхность которой обладает высокой плоскостностью и низким внутренним напряжением. Она служит основой для плоского зеркала; материал может выбираться из оптического стекла K9, плавленого кварца, карбида кремния и других.
Квадратная подложка плоского зеркала представляет собой квадратную прецизионно полированную оптическую подложку, поверхность которой обладает высокой плоскостностью и низким внутренним напряжением. Она служит основой для плоского зеркала; материал может выбираться из оптического стекла K9, плавленого кварца, карбида кремния и других. После шлифовки и полировки поверхность имеет мало дефектов; в дальнейшем на неё может наноситься металлическое отражающее покрытие или диэлектрическое высокоотражающее покрытие.
1. Подложка-носитель для нанесения покрытия: обеспечивает ровную и стабильную основу для высокоотражающего слоя, гарантирует точность формы зеркальной поверхности после нанесения покрытия и сохраняет качество отражённого пучка.
2. Стабильная опора с низким напряжением: малое внутреннее напряжение материала подложки, незначительная деформация при изменении температуры, стабильные оптические характеристики при длительной эксплуатации.
3. Удобство позиционирования и установки: квадратный контур упрощает совмещение, кромки могут служить базой, обеспечивается высокая точность закрепления и позиционирования, подложка подходит для стационарных оправ зеркал.
4. Подавление паразитного рассеяния: мало дефектов на полированной поверхности, снижение рассеяния света и помех от паразитного света в оптической схеме.
1. Подложки плоских отражающих элементов в лазерных оптических схемах и оборудовании лазерной обработки.
2. Подложки зеркал для интерферометров, спектральных приборов и прецизионного оптического контрольно-измерительного оборудования.
3. Отражающие элементы оптических сканирующих систем и оптических схем машинного зрения.
4. Заготовки зеркал для научных оптических платформ и учебных экспериментальных установок.